Target sputtering Nickel (Ni) adalah cakram logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Nikel adalah logam transisi yang dihargai karena sifat feromagnetiknya, ketahanan korosi, dan konduktivitas listrik yang baik. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom nikel yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan seed dan adhesi dalam riset elektronika lapisan tipis
- Studi lapisan magnetik tipis untuk penyimpanan data dan pengembangan sensor
- Lapisan logam tahan korosi dan dekoratif
- Lapisan elektroda untuk riset perangkat elektrokimia dan energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—