Target sputtering Nickel (Ni) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana atom dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Nickel merupakan logam transisi, dan target sputtering-nya termasuk dalam golongan target logam yang digunakan dalam riset dan pengembangan proses lapisan tipis.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis berbasis nikel untuk riset perangkat magnetik dan spintronik
- Pembuatan lapisan elektroda dan kontak logam dalam pembuatan prototipe elektronik
- Pengembangan lapisan pelindung korosi dan lapisan dekoratif
- Kajian lapisan tipis nikel sebagai lapisan benih (seed) atau lapisan perekat dalam struktur multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—