Target sputtering nikel (Ni) adalah cakram atau pelat logam padat yang terbuat dari nikel, logam transisi dari golongan logam. Target ini berfungsi sebagai material sumber dalam physical vapor deposition (PVD), di mana pengeboman ion berenergi tinggi melepaskan atom nikel yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Target sputtering logam seperti ini banyak digunakan dalam proses lapisan tipis skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan perekat dan lapisan benih dalam riset elektronika lapis tipis
- Studi lapisan tipis magnetik untuk penyimpanan data dan pengembangan sensor
- Lapisan logam anti-korosi dan dekoratif
- Pengembangan lapisan elektroda untuk riset perangkat energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—