Target sputtering nickel (Ni) adalah cakram atau lempeng padat dari logam nikel yang dirancang untuk sistem physical vapor deposition (PVD). Sebagai logam transisi, nikel dihargai karena sifat magnetik, ketahanan korosi, dan konduktivitasnya. Selama proses sputtering, target dihujani ion berenergi tinggi sehingga atom nikel terlepas dan terdeposisi sebagai lapisan tipis pada substrat.
- Kuantitas: 1 buah
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan benih (seed) logam dan lapisan adhesi dalam riset lapisan tipis
- Pembuatan film tipis magnetik untuk studi penyimpanan data dan sensor
- Lapisan pelindung dan tahan korosi pada sampel laboratorium
- Lapisan elektroda dan kontak dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—