Target sputtering nikel merupakan sumber logam padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom nikel yang kemudian terkondensasi pada substrat sebagai lapisan tipis. Sebagai logam transisi, nikel termasuk dalam golongan target logam dan banyak digunakan dalam riset lapisan tipis serta proses pelapisan industri.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan elektroda dan kontak pada perangkat elektronik lapis tipis
- Riset lapisan tipis magnetik dan pengembangan lapisan perekam
- Lapisan adhesi atau seed dalam proses mikrofabrikasi
- Lapisan pelindung korosi dan lapisan fungsional pada substrat logam dan kaca
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—