Target sputtering nikel (Ni) merupakan lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Nikel adalah logam transisi yang dihargai karena sifat magnetik, katalitik, dan ketahanan korosinya. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom nikel, yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis yang seragam.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan elektroda dan interkoneksi dalam riset perangkat elektronik
- Studi film tipis magnetik untuk penyimpanan data dan pengembangan sensor
- Pengembangan lapisan pelindung korosi dan lapisan dekoratif
- Lapisan benih atau lapisan adhesi dalam fabrikasi film tipis multilapis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—