Target sputtering Nickel (Ni) adalah lempengan atau cakram padat dan padat dari logam nikel yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Di bawah pengeboman ion, atom-atom terlepas dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis yang seragam. Nikel termasuk golongan logam transisi dan dikenal memiliki sifat magnetik dan katalitik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Riset lapisan tipis untuk media perekaman magnetik dan lapisan spintronik
- Pengembangan lapisan elektroda dan kontak dalam pembuatan prototipe perangkat elektronik
- Studi lapisan logam anti-korosi dan dekoratif
- Lapisan benih atau lapisan perekat sebelum proses elektroplating
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—