Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel (Ni) Sputtering Targets

Nickel (Ni) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 16.059.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 16.059.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Nickel (Ni) sputtering target adalah lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi film logam tipis pada substrat. Nikel adalah logam transisi feromagnetik yang dihargai karena ketahanan korosinya, konduktivitas listriknya, dan sifat magnetiknya, sehingga menjadi pilihan umum dalam riset dan pengembangan film tipis.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran harga.

  • Deposisi lapisan benih dan lapisan adhesi nikel dalam riset mikroelektronika
  • Film tipis magnetik untuk studi penyimpanan data dan spintronik
  • Pengembangan lapisan pelindung korosi dan lapisan dekoratif
  • Persiapan film elektroda dan katalis dalam riset energi

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—