Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel (Ni) Sputtering Targets

Nickel (Ni) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 16.755.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 16.755.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering nikel (Ni) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai bahan sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Nikel merupakan logam transisi feromagnetik yang dihargai karena ketahanan korosi, sifat magnetiknya, dan konduktivitas listriknya. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan atom nikel dari permukaan target, yang kemudian mengendap pada substrat dan membentuk lapisan tipis yang seragam.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis untuk riset perekaman magnetik dan spintronik
  • Lapisan logam pelindung korosi dan fungsional
  • Lapisan elektroda, seed, dan adhesi dalam riset mikroelektronika
  • Pembuatan lapisan tipis berbasis nikel untuk studi katalisis dan sensor

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—