Target sputtering nikel (nickel sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,9%, ukuran 8'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material dalam deposisi sputtering, yaitu proses ketika material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat, misalnya wafer silikon.
Sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, dan prosesnya dapat diulang dengan hasil konsisten. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil serta dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan struktur mikro lapisan.
- Deposisi lapisan tipis nikel pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan etsa sangat anisotropik dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), dengan material disputter pada laju konstan dan atomnya diukur menggunakan spektrometri massa.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari riset dan pengembangan ke batch produksi area menengah hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,9% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI32
- Material: Nikel (Ni)
- Ukuran: 8''
- Ketebalan: 0,250''
—
—