Target sputtering nickel (Ni) adalah lempeng logam padat yang digunakan sebagai material sumber dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion berenergi tinggi menembaki permukaan target dan melepaskan atom nikel yang mengendap pada substrat sehingga membentuk lapisan tipis yang seragam. Sebagai target logam transisi, nikel termasuk dalam golongan target sputtering logam yang digunakan dalam riset lapisan tipis dan pengembangan pelapisan.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan seed dan adhesi nikel dalam riset mikroelektronika
- Pembuatan lapisan tipis magnetik untuk studi penyimpanan data dan sensor
- Penyiapan lapisan elektroda dan kontak untuk perangkat elektronik dan elektrokimia
- Pelapisan pelindung dan dekoratif pada substrat logam dan kaca
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—