Target sputtering nikel (Ni) adalah lempeng nikel padat yang digunakan sebagai material sumber dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Nikel merupakan logam transisi, dan target sputtering jenis ini digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis logam yang seragam pada substrat. Sifat logamnya menjadikannya pilihan umum untuk riset lapisan feromagnetik dan katalitik. Target sputtering nikel Nanografi disediakan oleh AMI Scientific untuk penggunaan skala laboratorium dan pilot.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran. Tim kami dapat membantu memilih target yang tepat untuk sistem sputtering Anda.
- Deposisi lapisan tipis nikel untuk riset perangkat magnetik dan elektronik
- Lapisan dasar dan lapisan perekat dalam fabrikasi lapisan tipis
- Studi lapisan pelindung dan dekoratif
- Pengembangan lapisan elektroda dan katalis
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—