Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets, indium

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 40.326.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 40.326.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Nikel oksida (NiO) adalah oksida logam anorganik dan semikonduktor tipe-p dari golongan oksida logam transisi. Produk ini merupakan target sputtering, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Judul produk juga menyebutkan indium, sehingga mohon konfirmasi komposisi atau konfigurasi ikatannya dengan tim kami sebelum memesan.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Deposisi lapisan oksida tipe-p untuk riset elektronika lapisan tipis
  • Lapisan transpor lubang dan konduktif transparan untuk studi fotovoltaik dan display
  • Lapisan switching resistif untuk riset perangkat memori non-volatile
  • Pengembangan lapisan elektrokromik dan sensor gas

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—