Target sputtering nikel oksida (nickel oxide sputtering target) dengan indium ini berupa cakram dengan kemurnian 99,98%, diameter 2'' dan ketebalan 0,125'', dipasok per satu buah. Produk ini berfungsi sebagai bahan sumber untuk mendeposisikan lapisan tipis NiO melalui sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset dan pengembangan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar.
Tergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang tinggi atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis, di mana material yang terkikis dari target diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan etsa dengan anisotropi tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan utama.
- Analisis material seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,98% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI75
- Material: Nikel Oksida (NiO)
- Bonding: Indium
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
—
—