Target sputtering Nickel Oxide (NiO) adalah material sumber berbentuk keramik dari golongan oksida logam, digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Nickel oxide merupakan semikonduktor tipe-p dengan celah pita lebar yang banyak diteliti dalam riset lapisan tipis fungsional. Target ini berfungsi sebagai sumber padat untuk proses sputtering pada sistem deposisi yang sesuai. Daftar produk juga mencantumkan indium.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan pengangkut lubang (hole transport layer) dalam riset perovskit dan fotovoltaik organik
- Studi lapisan elektrokromik dan oksida konduktif transparan
- Pengembangan perangkat memori resistive switching
- Riset lapisan pelindung dan lapisan tipis fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—