Nikel oksida (NiO) merupakan oksida logam transisi yang banyak diteliti sebagai semikonduktor tipe-p. Produk ini tersedia sebagai target sputtering, yaitu material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis NiO pada substrat untuk keperluan riset dan pembuatan prototipe perangkat. Judul produk juga mencantumkan indium; silakan hubungi kami untuk memastikan komposisi target yang tepat serta detail ikatan atau backing-nya.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis NiO tipe-p untuk riset elektronika oksida
- Lapisan transpor hole dan ekstraksi muatan dalam studi sel surya organik dan perovskit
- Pengembangan lapisan elektrokromik dan smart window
- Lapisan switching resistif untuk riset perangkat memori non-volatil
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—