Nikel oksida (NiO) adalah keramik oksida logam anorganik dari golongan oksida logam transisi. Target sputtering merupakan material sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana bombardir ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target sehingga mengendap di substrat sebagai lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis konduktif transparan dan semikonduktor tipe-p untuk riset elektronika
- Lapisan transpor hole pada studi perangkat fotovoltaik organik dan perovskit
- Lapisan switching resistif untuk pengembangan perangkat memori
- Riset lapisan tipis elektrokromik dan sensor gas
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—
