Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 21.439.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 21.439.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Nikel oksida (NiO) adalah keramik oksida logam anorganik dari golongan oksida logam transisi. Target sputtering merupakan material sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), di mana bombardir ion berenergi tinggi melepaskan atom dari permukaan target sehingga mengendap di substrat sebagai lapisan tipis.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan tipis konduktif transparan dan semikonduktor tipe-p untuk riset elektronika
  • Lapisan transpor hole pada studi perangkat fotovoltaik organik dan perovskit
  • Lapisan switching resistif untuk pengembangan perangkat memori
  • Riset lapisan tipis elektrokromik dan sensor gas

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—