Target sputtering Nickel Oxide (NiO) adalah sumber padat dan rapat berbahan nikel oksida yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD). NiO merupakan oksida logam transisi anorganik yang banyak diteliti sebagai semikonduktor tipe-p dan material lapisan tipis fungsional. Target sputtering memungkinkan deposisi film NiO yang terkontrol pada substrat untuk riset dan pembuatan prototipe perangkat.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan transport lubang (hole transport layer) pada perangkat optoelektronik organik dan perovskit
- Lapisan elektrokromik dan kaca pintar (smart window)
- Lapisan switching resistif untuk riset perangkat memori
- Film lapisan tipis untuk sensor gas
- Lapisan oksida fungsional dalam riset katalisis dan energi
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—