Target sputtering Nickel Oxide (NiO) adalah material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis. NiO merupakan oksida logam transisi dan banyak diteliti sebagai semikonduktor tipe-p dengan celah pita lebar. Target sputtering jenis ini digunakan untuk mendeposisikan lapisan oksida yang seragam untuk riset dan pengembangan di bidang elektronik, energi, dan teknologi pelapisan.
- 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.
- Lapisan hole-transport dan tipe-p pada sel surya lapisan tipis serta perangkat fotovoltaik perovskit atau organik
- Lapisan elektrokromik untuk jendela pintar dan riset display
- Film sensor gas untuk mendeteksi gas pereduksi dan pengoksidasi
- Lapisan switching resistif untuk studi perangkat memori non-volatil
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—