Target sputtering nikel oksida (nickel oxide sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,98%, berdiameter 2'' dengan ketebalan 0,125'', dan dipasok per satu keping. Target ini menjadi sumber material untuk membentuk lapisan tipis NiO melalui proses sputtering pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputter dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran serta memberikan hasil yang konsisten. Proses yang dikembangkan pada skala riset kecil dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat teknik ini cukup kompleks, namun justru memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis nikel oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS), di mana material di-sputter dengan laju konstan untuk menentukan komposisi dan pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,98% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI63
- Material: Nikel Oksida (NiO)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,125''
- Kode produk: NG0ST01NI63
—
—