Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 27.438.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 27.438.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering Nickel Oxide (NiO) adalah material sumber berbentuk keramik yang digunakan dalam physical vapor deposition untuk membentuk lapisan tipis nikel oksida. NiO merupakan oksida logam transisi dari golongan semikonduktor oksida logam, yang bernilai pada bentuk lapisan tipis karena celah pita lebarnya dan perilaku konduksi tipe-p.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan transpor lubang pada riset perangkat fotovoltaik perovskit dan organik
  • Lapisan konduktif tipe-p yang transparan untuk studi optoelektronik
  • Lapisan switching resistif dalam pengembangan perangkat memori
  • Riset lapisan tipis elektrokromik dan sensor gas

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—