Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets

Nickel Oxide (NiO) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 33.824.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 33.824.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Nikel oksida (NiO) adalah senyawa keramik anorganik dari nikel dan oksigen, tergolong oksida logam transisi dengan sifat semikonduktor. Target sputtering berupa pelat padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis material ini pada substrat untuk riset dan pengembangan industri.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Lapisan pengangkut lubang (hole transport layer) pada perangkat fotovoltaik perovskite dan organik
  • Lapisan switching resistif dalam riset memori non-volatil
  • Lapisan fungsional elektrokromik dan transparan
  • Struktur sensor gas berbasis lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—