Sputtering target nickel vanadium (NiV) adalah target paduan logam yang tersusun dari nikel dan vanadium. Material ini berfungsi sebagai sumber material dalam proses sputtering physical vapor deposition (PVD), di mana atom-atom dilepaskan dari permukaan target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Material ini termasuk dalam golongan target sputtering paduan logam yang digunakan dalam riset nanomaterial dan lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis logam untuk riset mikroelektronika dan perangkat
- Studi struktur lapisan tipis magnetik dan sifat-sifatnya
- Pengembangan lapisan logam fungsional dan tahan korosi
- Pembuatan struktur multilapis serta lapisan perekat atau lapisan benih pada perangkat eksperimen
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—