Target sputtering nikel vanadium (nickel vanadium sputtering target, NiV) dari Nanografi merupakan bahan sumber untuk menghasilkan lapisan tipis (thin film) melalui proses sputtering. Produk ini memiliki kemurnian 99,95%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,250'', serta tersedia dalam kemasan satu keping.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini dapat diterapkan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, dan dapat ditingkatkan skalanya dari proyek riset dan pengembangan kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering menjadi proses yang kompleks, namun memberi kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon dengan metode sputtering.
- Etsa sputter (sputter etching) bila dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis dengan pengikisan material, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), di mana sputtering mengubah sifat fisik dan kimia benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 keping |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI79
- Material: Nikel Vanadium (NiV)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST01NI79
—
—