Sputtering target Nickel Vanadium (NiV) adalah sumber padat paduan logam nikel dan vanadium yang dirancang untuk proses physical vapor deposition (PVD). Tergolong sputtering target paduan logam dalam kategori nanomaterial, target ini digunakan untuk mendeposisikan lapisan tipis yang seragam pada substrat di dalam ruang vakum, sehingga menjadi sumber yang terkontrol dan dapat direproduksi untuk pekerjaan riset dan pengembangan.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Riset metalisasi lapisan tipis untuk prototipe perangkat elektronik dan semikonduktor
- Pengembangan lapisan penghalang difusi dan lapisan adhesi pada tumpukan lapisan multilapis
- Studi lapisan pelindung dan fungsional pada substrat logam dan keramik
- Riset lapisan tipis magnetik dan katalitik di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—