Target sputtering Nickel Vanadium (NiV) adalah material sumber padat yang terbuat dari paduan logam nikel-vanadium. Dalam physical vapor deposition (PVD), target ini dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atom-atomnya terlepas dan terdeposisi pada substrat, membentuk lapisan tipis yang seragam. Target paduan logam seperti NiV termasuk golongan material sputtering fungsional yang digunakan dalam riset lapisan tipis dan proses pelapisan maju.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis paduan logam untuk riset perangkat elektronik dan mikroelektronika
- Pengembangan lapisan fungsional untuk studi rekayasa permukaan
- Pembuatan lapisan tipis untuk penelitian material magnetik dan spintronik
- Pengembangan dan optimasi proses di laboratorium PVD perguruan tinggi dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—