Target sputtering nikel vanadium (nickel vanadium sputtering target) dari Nanografi ini berukuran 3'' dengan ketebalan 0,125'' dan kemurnian 99,95%. Produk dipasok per satu buah dan digunakan sebagai bahan sumber pada sistem sputtering untuk menumbuhkan lapisan tipis.
Dalam proses sputtering, material dikikis dari target lalu diendapkan ke substrat, misalnya wafer silikon. Metode ini cocok untuk beragam material serta substrat dengan bentuk dan ukuran berbeda, dan hasilnya dapat diulang. Proses yang dikembangkan pada skala riset dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat deposisi sputter cukup kompleks, namun justru memberi kendali yang besar atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa yang tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis material melalui sputtering, seperti pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkadar sangat rendah.
- Peningkatan skala proses lapisan tipis dari riset dan pengembangan ke batch produksi berarea sedang hingga besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01NI82
- Material: Nikel Vanadium (NiV)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,125''
—
—