Target sputtering Nickel Vanadium (NiV) adalah target paduan logam padat yang tersusun dari nikel dan vanadium, dirancang untuk digunakan dalam sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target sehingga atom-atomnya terlepas dan mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Target paduan NiV termasuk dalam golongan target paduan logam dan banyak digunakan dalam riset dan pengembangan lapisan tipis.
- 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, certificate of analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis untuk riset perangkat elektronik dan mikroelektronik
- Pengembangan lapisan tipis magnetik dan struktur spintronik
- Studi lapisan pelindung logam tahan korosi
- Pembuatan lapisan elektroda dan kontak pada prototipe laboratorium
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—