Target sputtering Nickel Vanadium (NiV) adalah target paduan logam yang tersusun dari nikel dan vanadium. Target ini berfungsi sebagai material sumber dalam proses physical vapor deposition (PVD), di mana target dibombardir dengan ion berenergi tinggi sehingga atomnya terlepas dan terdeposisi pada substrat sebagai lapisan tipis. Sebagai target paduan, NiV umumnya dipilih ketika peneliti perlu mengontrol komposisi logam pada lapisan yang terbentuk.
- 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis paduan nikel-vanadium untuk riset material
- Pengembangan lapisan kontak dan elektroda logam dalam studi perangkat elektronik
- Riset lapisan tipis magnetik dan spintronik
- Studi lapisan fungsional pada substrat laboratorium
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—