Target sputtering nickel vanadium (NiV) adalah sumber material logam paduan padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering. Selama proses berlangsung, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Sebagai paduan logam biner, NiV memadukan sifat dari kedua unsur penyusunnya, sehingga bermanfaat untuk riset yang membutuhkan komposisi lapisan tipis logam yang terkontrol.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan elektroda dan kontak dalam riset mikroelektronika dan perangkat
- Studi lapisan penghalang difusi dan lapisan adhesi pada tumpukan lapisan tipis multilapis
- Pengembangan lapisan tipis magnetik dan spintronik
- Riset lapisan pelindung dan pelapis logam fungsional
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—