Target sputtering niobium (niobium sputtering target) ini merupakan bahan sumber dengan kemurnian 99,95%, berukuran 1'' dan tebal 0,250'', yang digunakan untuk membentuk lapisan tipis niobium melalui proses sputtering. Produk tersedia dalam kemasan satu buah.
Deposisi sputter mampu melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, dengan hasil yang dapat diulang. Metode ini cocok untuk proyek riset dan pengembangan skala kecil dan dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat sedang hingga besar.
Tergantung parameter proses, reaksi kimia dapat berlangsung di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter yang dapat diatur memungkinkan pengguna berpengalaman mengendalikan pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan secara cermat.
- Deposisi lapisan tipis, yaitu material yang terkikis dari target diendapkan ke substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) pada bidang semikonduktor ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Etsa untuk analisis, misalnya pada spektrometri massa ion sekunder (SIMS), guna menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor berkonsentrasi sangat rendah.
- Kajian pelapukan antariksa (space weathering), ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,95% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST02NI02
- Material: Niobium (Nb)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST02NI02
—
—