Target sputtering niobium (Nb) adalah sumber logam padat yang terbuat dari niobium, logam transisi refraktori dengan simbol kimia Nb. Target ini digunakan dalam physical vapor deposition (PVD), khususnya magnetron sputtering, untuk mendeposisikan lapisan tipis niobium pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan industri. Lapisan niobium banyak dikaji karena kekerasan mekanik, ketahanan korosi, dan sifat elektroniknya, sehingga target ini menjadi pilihan umum untuk pekerjaan lapisan tipis di laboratorium.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Deposisi lapisan tipis niobium untuk riset lapisan optik dan pelindung
- Pembuatan lapisan perekat dan penghalang dalam pengembangan perangkat elektronik lapis tipis
- Persiapan film berbasis niobium untuk studi superkonduktivitas dan material kuantum
- Pengembangan lapisan tahan aus dan tahan korosi pada substrat logam
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—