Niobium (Nb) sputtering target adalah lempengan padat dan rapat dari logam transisi refraktori niobium, dirancang sebagai bahan sumber untuk sistem sputtering physical vapor deposition (PVD). Selama sputtering, ion menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat membentuk lapisan tipis. Niobium dihargai karena titik lelehnya yang tinggi, ketahanan terhadap korosi, dan kekuatan mekaniknya. Target ini dipasok dengan merek Nanografi dalam kategori produk nanomaterial.
- Jumlah: 1 buah
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis optik untuk prototipe riset
- Studi superkonduktivitas lapisan tipis
- Pembuatan prototipe perangkat dan sensor elektronik
- Riset lapisan pelindung dan lapisan keras
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—