Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets, indium

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 20.471.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 20.471.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering niobium oksida (Nb2O5) adalah material sumber berbentuk padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat. Nb2O5 termasuk golongan oksida logam transisi, kelompok senyawa keramik yang banyak dipelajari untuk sifat optik dan dielektrik. Judul produk juga mencantumkan indium, sehingga konfigurasi target yang tepat perlu dikonfirmasi kepada pemasok.

  • 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Riset lapisan tipis optik
  • Pengembangan lapisan dielektrik untuk perangkat elektronik
  • Studi lapisan elektrokromik dan smart window
  • Riset sensor lapisan tipis dan fotokatalisis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—