Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets, indium

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets, indium
Harga reguler Rp 19.620.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 19.620.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Niobium oksida (Nb2O5) adalah keramik oksida logam anorganik. Produk ini merupakan target sputtering, yaitu lempeng sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis niobium oksida pada substrat. Target keramik oksida seperti ini banyak digunakan dalam riset lapisan fungsional dan dielektrik.

  • Indium (sebagaimana tercantum dalam judul produk)
  • Kuantitas: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis optik, seperti lapisan dielektrik dan lapisan anti-refleksi
  • Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan fotonik
  • Studi lapisan tipis elektrokromik dan jendela pintar
  • Pengembangan lapisan oksida fungsional di laboratorium universitas dan R&D

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—