Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 62.774.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 62.774.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Niobium oksida (Nb2O5) adalah keramik oksida anorganik dari niobium, tergolong material keramik fungsional. Target sputtering merupakan potongan padat dari material ini yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis pada substrat untuk keperluan riset dan pengembangan.

  • Jumlah: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan tipis optik dan lapisan interferensi
  • Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan mikroelektronik
  • Studi film elektrokromik dan jendela pintar
  • Pengembangan film oksida fungsional dan fotokatalitik

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—