Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 7.312.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 7.312.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Niobium oksida (Nb2O5) adalah oksida logam transisi anorganik. Sebagai target sputtering, material ini berfungsi sebagai sumber padat dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis pada substrat. Bentuk ini ditujukan untuk proses lapisan tipis yang terkontrol di laboratorium riset dan lingkungan pelapisan industri.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan optik tipis dan tumpukan multilapisan
  • Lapisan dielektrik dalam riset perangkat elektronik dan mikroelektronika
  • Pengembangan film elektrokromik dan kaca pintar
  • Studi lapisan tipis fotokatalitik dan sensor gas

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—