Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 10.331.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 10.331.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Sputtering target niobium oksida (Nb2O5) merupakan sumber keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis niobium oksida pada substrat. Niobium pentoksida termasuk golongan oksida logam transisi dan dihargai dalam riset lapis tipis karena indeks biasnya yang tinggi, stabilitas kimianya, serta sifat dielektriknya.

  • Jumlah: 1 buah

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Lapisan optik dan lapisan dengan indeks bias tinggi
  • Riset lapis tipis elektrokromik dan smart window
  • Lapisan dielektrik dan pasivasi pada perangkat elektronik
  • Studi lapis tipis fotokatalitik dan sensor gas

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—