Target sputtering niobium oksida (niobium oxide sputtering target) Nb2O5 dari Nanografi ini berukuran 2'' dengan ketebalan 0,250'' dan kemurnian 99,5%. Target ini menjadi sumber material untuk mendeposisikan lapisan tipis niobium oksida melalui sputtering, yaitu proses pengikisan material dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon.
Deposisi sputtering dapat melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, serta memberikan hasil yang dapat diulang. Prosesnya dapat ditingkatkan dari proyek riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat sputtering cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis niobium oksida pada substrat seperti wafer silikon.
- Sputter etching ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi prioritas.
- Analisis permukaan seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) untuk menentukan komposisi dan mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa, ketika sputtering mengubah permukaan benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST02NI35
- Material: Niobium Oksida (Nb2O5)
- Ukuran: 2''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST02NI35
—
—