Target sputtering niobium oksida (niobium oxide sputtering target, Nb2O5) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,5%, ukuran 3'' dan ketebalan 0,250''. Target berfungsi sebagai sumber material pada proses deposisi sputter, di mana material dikikis dari target lalu diendapkan sebagai lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
Sputtering merupakan teknik yang sudah teruji untuk melapisi substrat dengan beragam bentuk dan ukuran. Prosesnya dapat diulang dengan konsisten, sehingga pekerjaan riset skala kecil dapat ditingkatkan ke batch produksi dengan area substrat menengah hingga besar. Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat.
Banyaknya parameter yang dapat diatur memberi pengguna berpengalaman kendali yang luas atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi seperti spektrometri massa ion sekunder (SIMS) yang mampu mendeteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Riset hingga peningkatan skala ke batch produksi dengan area substrat menengah dan besar.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,5% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST02NI37
- Material: Niobium Oksida (Nb2O5)
- Ukuran: 3''
- Ketebalan: 0,250''
- Kode produk: NG0ST02NI37
—
—