Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 23.026.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 23.026.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Niobium oksida (Nb2O5), yang juga dikenal sebagai niobium pentoksida, adalah oksida logam transisi anorganik. Target sputtering merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk melapisi substrat dengan lapisan tipis di dalam ruang vakum. Produk Nanografi ini berupa target niobium oksida yang ditujukan untuk riset dan pengembangan proses lapisan tipis.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.

  • Deposisi lapisan optik tipis dan susunan multilapis
  • Pembuatan lapisan dielektrik untuk riset perangkat elektronik dan fotonik
  • Pengembangan film oksida fungsional untuk studi elektrokromik dan kaca pintar
  • Riset akademik dan industri mengenai optimasi proses PVD

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—