Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets

Niobium Oxide (Nb2O5) Sputtering Targets
Harga reguler Rp 21.632.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 21.632.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering niobium oksida (Nb2O5) adalah material sumber keramik padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), seperti magnetron sputtering DC atau RF, untuk membentuk lapisan tipis. Nb2O5 termasuk dalam keluarga oksida logam transisi dan banyak diteliti karena indeks biasnya yang tinggi serta sifat dielektriknya.

  • 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan dengan indeks bias tinggi pada pelapis optik dan filter interferensi
  • Riset perangkat elektrokromik dan kaca pintar (smart window)
  • Lapisan dielektrik dan pasivasi dalam pengembangan komponen elektronik
  • Riset fotokatalisis dan energi menggunakan lapisan oksida tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—