Target sputtering selenium (selenium sputtering target) dari Nanografi ini memiliki kemurnian 99,999%, ukuran 1'' dan ketebalan 0,250'', dan dipasok per satu buah. Target ini menjadi sumber material untuk membentuk lapisan tipis selenium melalui proses sputtering.
Pada deposisi sputter, material dikikis dari target lalu diendapkan pada substrat seperti wafer silikon. Metode ini dapat digunakan pada substrat dengan beragam bentuk dan ukuran, memberikan hasil yang dapat diulang, serta dapat ditingkatkan skalanya dari riset dan pengembangan skala kecil hingga batch produksi dengan area substrat menengah sampai besar.
Bergantung pada parameter proses, reaksi kimia dapat terjadi di permukaan target, selama perjalanan partikel, atau di substrat. Banyaknya parameter membuat proses ini cukup kompleks, namun memberi pengguna berpengalaman kendali yang baik atas pertumbuhan dan mikrostruktur lapisan.
- Deposisi lapisan tipis selenium pada substrat seperti wafer silikon.
- Etsa sputter (sputter etching) ketika dibutuhkan anisotropi etsa tinggi dan selektivitas tidak menjadi pertimbangan.
- Analisis komposisi dengan spektrometri massa ion sekunder (SIMS), termasuk deteksi pengotor dalam konsentrasi sangat rendah.
- Penelitian terkait pelapukan antariksa (space weathering) pada benda tanpa atmosfer seperti asteroid dan Bulan.
| Merek | Nanografi |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | 99,999% |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | 1 buah |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
- Kode produk: NG0ST01SE02
- Material: Selenium (Se)
- Ukuran: 1''
- Ketebalan: 0,250''
—
—