Produk ini adalah target sputtering silicon dioxide (SiO2) yang terbuat dari fused quartz. Target sputtering merupakan material sumber padat yang digunakan dalam physical vapor deposition, di mana atom dilepaskan dari target dan diendapkan pada substrat untuk membentuk lapisan tipis. Fused quartz adalah bentuk silika sintetis yang amorf, sehingga target ini termasuk golongan material keramik oksida. Judul produk juga mencantumkan indium, yang mungkin berkaitan dengan cara target dilekatkan atau dipasang; mohon konfirmasikan perannya dengan AMI Scientific.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Deposisi lapisan tipis silika untuk lapisan interferensi optik
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Lapisan pelindung dan pasivasi dalam studi ilmu material
- Pengembangan film berbasis silika untuk perangkat sensor dan fotonik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—