Target sputtering silikon dioksida (SiO2) adalah sumber keramik oksida padat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk mendeposisikan lapisan tipis silika pada substrat. Material ini berbasis kuarsa lebur, yaitu bentuk amorf silikon dioksida yang dihargai karena transparansi optik, stabilitas termal, dan sifat dielektriknya. Material ini termasuk golongan oksida anorganik dan dielektrik.
- Quantity: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan lapisan dielektrik
- Lapisan isolasi dan dielektrik dalam riset mikroelektronika dan perangkat
- Lapisan pelindung atau penghalang pada substrat laboratorium
- Pengembangan pemandu gelombang dan perangkat fotonik
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—