Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 3.325.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 3.325.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silikon dioksida (SiO2) adalah lempeng padat silikon dioksida yang digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition, di mana proses sputtering memindahkan material tersebut ke substrat untuk membentuk lapisan tipis. Produk ini terbuat dari kuarsa lebur, yaitu bentuk silikon dioksida amorf menyerupai kaca yang dihargai karena stabilitas kimianya dan transparansi optisnya.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Lapisan tipis optik, seperti lapisan antirefleksi dan lapisan pelindung
  • Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
  • Fabrikasi pemandu gelombang dan perangkat fotonik
  • Lapisan penghalang pelindung pada substrat riset

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—