Target sputtering silicon dioxide (SiO2) adalah pelat keramik padat yang terbuat dari kuarsa lebur, yaitu bentuk amorf dari silika. Sebagai oksida anorganik, SiO2 banyak digunakan sebagai material sumber dalam physical vapor deposition, di mana sputtering memindahkan atom dari target ke substrat untuk membentuk film tipis. Target kuarsa lebur dipilih karena stabilitas kimianya dan ekspansi termal yang rendah, sehingga umum digunakan dalam riset film tipis dielektrik dan optik.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan film tipis optik seperti lapisan antirefleksi dan pelindung
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
- Film pasivasi dan penghalang pada substrat semikonduktor dan kaca
- Pembuatan prototipe perangkat film tipis di laboratorium universitas dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—