Target sputtering silikon dioksida (SiO2) fused quartz merupakan potongan sumber padat dan rapat yang digunakan dalam physical vapor deposition (PVD) untuk menghasilkan lapisan tipis. Fused quartz adalah bentuk silikon dioksida amorf, tidak berkristal, yaitu oksida golongan keramik yang dihargai karena stabilitas kimianya dan transparansi optiknya pada spektrum yang luas. Selama sputtering, ion berenergi tinggi menghantam permukaan target dan melepaskan atom yang kemudian mengendap pada substrat, membentuk lapisan SiO2 yang seragam.
- Kuantitas: 1 piece
Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.
- Lapisan tipis optik, termasuk lapisan antirefleksi dan lapisan pelindung
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika dan semikonduktor
- Lapisan penghalang pelindung pada kaca dan komponen optik
- Studi permukaan dan antarmuka pada lapisan tipis berbasis silika
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—