Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 5.803.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 5.803.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silikon dioksida (SiO2) dari kuarsa lebur adalah sumber material padat berbentuk keramik yang digunakan dalam deposisi uap fisik. Silikon dioksida merupakan oksida anorganik dari golongan material dielektrik dan pembentuk kaca, sedangkan kuarsa lebur adalah bentuk amorf SiO2 yang dikenal karena stabilitas termal dan transparansi optiknya. Selama proses sputtering, ion berenergi tinggi melepaskan material dari permukaan target, lalu material tersebut mengendap sebagai lapisan tipis pada substrat.

  • Quantity: 1 piece

Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, Certificate of Analysis (CoA), atau penawaran.

  • Deposisi lapisan tipis dielektrik dan isolasi untuk riset mikroelektronika
  • Pembuatan lapisan optik dan lapisan antirefleksi
  • Lapisan pelindung dan penghalang pada kaca maupun substrat lain
  • Studi pengembangan lapisan tipis di laboratorium ilmu material

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—