Target sputtering silicon dioxide (SiO2) dari quartz fused merupakan material sumber padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD), khususnya sputtering magnetron dan RF. Silicon dioxide adalah keramik oksida yang termasuk golongan material dielektrik dan berbasis kaca, dihargai karena transparansi optik dan stabilitas kimianya. Quartz fused merupakan bentuk amorf dari silika, sehingga umum digunakan sebagai bahan awal target sputtering untuk riset lapisan tipis.
- Quantity: 1 piece
Hubungi AMI Scientific untuk spesifikasi teknis, CoA, atau penawaran.
- Lapisan tipis optik, seperti lapisan anti-refleksi dan interferensi
- Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
- Lapisan pelindung dan penghalang pada kaca dan substrat lainnya
- Pengembangan proses deposisi lapisan tipis di laboratorium akademik dan industri
| Merek | — |
|---|---|
| Nomor CAS | — |
| Rumus molekul | — |
| Kemurnian | — |
| Kategori | — |
| Ukuran kemasan | — |
| Bentuk fisik | — |
| Penyimpanan | — |
—
—