Langsung ke informasi produk
1 dari 1

Nanografi

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz

Silicon Dioxide (SiO2) Sputtering Targets, Fused Quartz
Harga reguler Rp 6.809.000,00
Harga reguler Harga obral Rp 6.809.000,00
Obral Habis
Biaya pengiriman dihitung saat checkout.
Quantity
Jumlah
Pembayaran hanya melalui request quotation dan dilakukan setelah tim kami menghubungi Anda. Mohon cantumkan nomor WhatsApp aktif untuk konfirmasi pesanan & pembuatan invoice. Estimasi pengiriman 1-2 bulan setelah pembayaran. Jika belum ada respons, hubungi +62 823-2282-4346.

Lihat detail lengkap

Target sputtering silikon dioksida (SiO2) berbahan quartz lebur merupakan material sumber padat yang digunakan dalam proses physical vapor deposition (PVD) untuk membentuk lapisan tipis. Silikon dioksida adalah senyawa oksida dari silikon dan oksigen, termasuk dalam golongan keramik oksida dan material dielektrik. Quartz lebur adalah bentuk silika amorf yang tidak berkristal, dengan struktur seperti kaca. Produk nanomaterial dari Nanografi ini ditujukan untuk keperluan laboratorium dan riset.

  • Quantity: 1 piece

Untuk spesifikasi teknis, sertifikat analisis (CoA), atau penawaran, silakan hubungi AMI Scientific.

  • Deposisi lapisan optik tipis
  • Lapisan dielektrik dan isolasi dalam riset mikroelektronika
  • Lapisan pelindung pada substrat riset
  • Modifikasi permukaan dan pengembangan proses lapisan tipis

Merek —
Nomor CAS —
Rumus molekul —
Kemurnian —
Kategori —
Ukuran kemasan —
Bentuk fisik —
Penyimpanan —

—

—